使用射頻反應磁控濺射法，在不同的射頻功率和氣體流量比下制備了氮化銅薄膜，并用X射線衍射儀和原子力顯微鏡對薄膜的結構進行表征。研究結果表明：薄膜呈現擇優(yōu)生長規(guī)律，由低氣體流量比的Cu3N(111)晶面轉向...
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發(fā)布日期：2010-06-12 作者：肖劍榮,徐 慧,劉小良,李燕峰,張鵬華,簡獻忠
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